技术摘要：
本发明涉及一种液体处理装置及液体处理方法。在显影装置中，使由旋转夹头吸附保持的衬底以水平姿势旋转。从具有在一方向上连续延伸的一个喷出口的显影液喷嘴将显影液喷出到衬底上。此时，以如下方式固定显影液喷嘴的姿势，即，对通过衬底的旋转中心的衬底上表面的基准  全部
背景技术：
以往，为了对形成在衬底上的抗蚀膜进行显影处理而使用显影装置。例如，显影装 置具备：旋转夹头，将衬底水平地保持且使之绕铅垂轴旋转；及喷嘴，对衬底供给显影液。当 进行显影处理时，在利用旋转夹头使衬底旋转的状态下，使喷嘴一边喷出显影液一边从衬 底的外侧向衬底的中心部上方移动(例如参照日本专利第4369325号)。 在该情况下，对整个衬底上供给显影液，以覆盖衬底上的抗蚀膜的方式形成显影 液的液体层。在该状态下，进行衬底上的抗蚀膜的溶解反应。之后，去除衬底上的显影液及 溶解后的抗蚀剂，显影处理结束。
技术实现要素：
如上所述，在对整个衬底上供给显影液等处理液的处理中，为了降低衬底的制造 成本，要求进一步减少处理液的使用量。另外，期望以更短时间进行高效率的处理。 本发明的目的在于提供一种能够减少处理液的使用量并且提高衬底处理效率的 液体处理装置及液体处理方法。 (1)按照本发明的一形态的液体处理装置是通过对衬底供给处理液来进行规定处 理，且具备：旋转保持部，将衬底以水平姿势保持且使之绕铅垂轴旋转；喷嘴，具有在一方向 上连续延伸的一个喷出口或在一方向上间断配置的多个喷出口，将处理液喷出到利用旋转 保持部而旋转的衬底上表面；处理液供给系统，对喷嘴供给处理液；及移动部，在将从喷嘴 喷出的处理液的一部分供给到通过利用旋转保持部而旋转的衬底的旋转中心的衬底上表 面的直线上，且衬底上表面的接收处理液的触液区域沿着从直线倾斜的方向延伸的状态 下，使喷嘴在直线的方向上移动；且触液区域具有第1及第2端部，第2端部比第1端部更远离 衬底的旋转中心且在衬底的旋转方向上位于比第1端部更下游。 该液体处理装置中，在将从喷嘴喷出的处理液的一部分供给到通过衬底的旋转中 心的衬底上表面的直线上，且触液区域沿着从直线倾斜的方向延伸的状态下，喷嘴在直线 的方向上移动。触液区域的第2端部位于比第1端部更下游。在该情况下，供给到衬底上表面 的处理液从触液区域迅速扩散到衬底上表面的较广范围。因此，通过使喷嘴在直线的方向 上移动，而短时间内在衬底整个上表面形成均匀的处理液的膜。因此，能够减少衬底处理所 需的处理液，并且缩短衬底处理时间，由此提高衬底处理效率。 (2)移动部也可在俯视时一个喷出口或多个喷出口远离直线的状态下移动且在从 一个喷出口或多个喷出口朝向衬底旋转方向的下游喷出处理液的状态下使喷嘴移动。 在该情况下，从斜上方对衬底上表面供给处理液。此时，在俯视时，触液区域中被 供给处理液的方向与衬底的旋转方向大致一致。由此，在衬底上表面，处理液从触液区域顺 4 CN 111580355 A 说　明　书 2/10 页 利地扩散到该触液区域的下游侧。另外，即使在触液区域中被供给的处理液的一部分向衬 底的上方飞溅的情况下，飞溅的液滴也会向朝向衬底旋转方向的下游的方向、也就是远离 喷嘴的方向飞散。因此，防止在衬底上表面飞溅的处理液的液滴附着在喷嘴，从而防止因喷 嘴受污染而产生微粒。 (3)喷嘴也可具有一个喷出口，且一个喷出口是以在一方向上连续延伸的方式形 成的狭缝。 在该情况下，处理液从形成在衬底上表面的带状触液区域顺利地扩散到该触液区 域的下游侧。 (4)移动部也可以触液区域从衬底的旋转中心移动到衬底的外周端部的方式使喷 嘴移动。 在该情况下，从衬底的旋转中心向衬底的外周端部连续供给显影液。由此，能够将 处理液均匀地供给到衬底的整个上表面。 (5)移动部也可在触液区域移动到衬底的外周端部后，进而以触液区域从衬底的 外周端部返回到衬底的旋转中心的方式使喷嘴移动。 在该情况下，通过从衬底的旋转中心向衬底的外周端部连续供给处理液，而将处 理液供给到衬底的整个上表面，从而衬底上表面成为充分润湿的状态。由此，通过从衬底的 外周端部向衬底的旋转中心连续供给处理液，能够在衬底上表面稳定地形成处理液的液体 层。 (6)移动部也可在喷嘴开始移动时，以触液区域的第1端部位于衬底的旋转中心的 方式定位喷嘴。 在该情况下，能够在开始向衬底供给处理液的同时，从衬底中心朝向衬底的外周 端部顺利地供给处理液。 (7)按照本发明的另一形态的液体处理方法是通过对衬底供给处理液来进行规定 处理，且包括如下步骤：将衬底以水平姿势保持且使之绕铅垂轴旋转；对具有在一方向上连 续延伸的一个喷出口或在一方向上间断配置的多个喷出口的喷嘴供给处理液，从喷嘴向旋 转的衬底上表面喷出处理液；以及在将从喷嘴喷出的处理液的一部分供给到通过旋转的衬 底的旋转中心的衬底上表面的直线上，且衬底上表面的接收处理液的触液区域沿着从直线 倾斜的方向延伸的状态下，使喷嘴在直线的方向上移动；且触液区域具有第1及第2端部，第 2端部比第1端部更远离衬底的旋转中心，且在衬底的旋转方向上位于比第1端部更下游。 该液体处理方法中，在将从喷嘴喷出的处理液的一部分供给到通过衬底的旋转中 心的衬底上表面的直线上，且触液区域沿着从直线倾斜的方向延伸的状态下，使喷嘴在直 线的方向上移动。触液区域的第2端部位于比第1端部更下游。在该情况下，供给到衬底上表 面的处理液从触液区域迅速地扩散到衬底上表面的较广范围。因此，通过使喷嘴在直线的 方向上移动，而短时间内在衬底的整个上表面形成均匀的处理液的膜。因此，能够减少衬底 处理所需的处理液，并且缩短衬底处理时间，由此提高衬底处理效率。 (8)使喷嘴在直线的方向上移动的步骤也可包括：在俯视时一个喷出口或多个喷 出口远离直线的状态下移动且在从一个喷出口或多个喷出口朝向衬底旋转方向的下游喷 出处理液的状态下使喷嘴移动。 在该情况下，从斜上方对衬底上表面供给处理液。此时，在俯视时，触液区域中被 5 CN 111580355 A 说　明　书 3/10 页 供给处理液的方向与衬底的旋转方向大致一致。由此，在衬底上表面，处理液从触液区域顺 利地扩散到该触液区域的下游侧。另外，即使在触液区域中被供给的处理液的一部分向衬 底上方飞溅的情况下，飞溅的液滴也会向朝向衬底旋转方向的下游的方向、也就是远离喷 嘴的方向飞散。因此，防止在衬底上表面飞溅的处理液的液滴附着在喷嘴，从而防止因喷嘴 受污染而产生微粒。 (9)喷嘴也可具有一个喷出口，且一个喷出口是以在一方向上连续延伸的方式形 成的狭缝。 在该情况下，处理液从形成在衬底上表面的带状触液区域顺利地扩散到该触液区 域的下游侧。 (10)使喷嘴在直线的方向上移动的步骤也可包括：以触液区域从衬底的旋转中心 移动到衬底的外周端部的方式使喷嘴移动。 在该情况下，从衬底的旋转中心向衬底的外周端部连续供给显影液。由此，能够将 处理液均匀地供给到衬底的整个上表面。 (11)使喷嘴在直线的方向上移动的步骤也可包括：在触液区域移动到衬底的外周 端部后，进而以触液区域从衬底的外周端部返回到衬底的旋转中心的方式使喷嘴移动。 在该情况下，通过从衬底的旋转中心向衬底的外周端部连续供给处理液，而将处 理液供给到衬底的整个上表面，衬底上表面成为充分润湿的状态。由此，通过从衬底的外周 端部向衬底的旋转中心连续供给处理液，能够在衬底上表面形成处理液的液体层。 (12)使喷嘴在直线的方向上移动的步骤也可包括：在喷嘴开始移动时，以触液区 域的第1端部位于衬底的旋转中心的方式定位喷嘴。 在该情况下，能够在开始向衬底供给处理液的同时，从衬底的中心朝向衬底的外 周端部顺利地供给处理液。 附图说明 图1是表示本发明的一实施方式的显影装置的构成的示意性俯视图。 图2是沿图1的M-M线的显影装置的示意性剖视图。 图3是图1的显影液喷嘴的外观立体图。 图4是沿图3的箭头N方向观察到的显影液喷嘴的喷出口的放大图。 图5是表示从图4的喷出口喷出显影液的状态的显影液喷嘴的局部放大图。 图6及图7是用来说明使用图1的显影装置的显影处理的具体例的图。 图8是表示第1～第3实施例及比较例的模拟结果的图。 图9是变化例的显影液喷嘴的外观立体图。 图10是表示具备图1的显影装置的衬底处理装置的整体构成的示意性框图。