技术摘要：
基板处理装置包括处理模块和索引模块，在所述索引模块上放置有盒子，所述盒子具有在其内部接收的所述基板；并且所述索引模块包括索引机械手，其在所述盒子和所述处理模块之间传送所述基板。处理模块包括工艺腔室和传送腔室。工艺腔室包括支承单元。所述支承单元包括：  全部
背景技术：
为了制造半导体设备，通过在基板上执行诸如光刻、蚀刻、灰化、离子注入、薄膜沉 积和清洁等的各种工艺，在基板上形成所需图案。必须传送基板以依序执行各种工艺。基板 由基板传送装置而在单元之间传送。半导体设备制造工艺中使用的基板传送装置包括多个 多关节臂和手指部分，并且多关节臂和手(hand)(也称为末端执行器)彼此配合操作。在上 述工艺中，用于蚀刻工艺的蚀刻工艺设备中，考虑到被蚀刻的部件的数量和内部的电场变 化，必须更换内部部件。在半导体制造工艺中，需要使用机械手来替换并保持基板、以及除 基板外的其他部件的技术，以改进生产率。 在这些技术中，需要使用机械手来替换聚焦环的技术。通常，通过使用真空夹持的 方法来传送基板。然而，在通过使用真空夹持的方法来传送聚焦环的情况下，聚焦环的传送 是不稳定的，因为聚焦环在其中心具有大的开口，使得接触区域狭窄，且聚焦环不能很好地 附接。 此外，基板和聚焦环具有不同的直径，因此用于夹持基板的真空孔和用于夹持聚 焦环的真空孔必须在手上单独地形成。因此，内部结构复杂。
技术实现要素：
本发明构思的实施方案提供了一种用于使用现有的手稳定地传送聚焦环的基板 处理装置和方法。 本发明构思的实施方案提供了一种用于使用单独的载体稳定地传送聚焦环的基 板处理装置和方法。 本发明构思所要解决的技术问题不限于上述的问题。本发明构思所属领域的技术 人员将从以下描述中清楚地理解本文中没有提及的任何其他技术问题。 根据示例性实施方案，公开了一种用于处理基板的装置。 该基板处理装置包括：处理模块，其处理所述基板；和索引模块，其上放置有盒子， 所述盒子具有在其内部接收的所述基板，所述索引模块包括索引机械手，其在所述盒子和 所述处理模块之间传送所述基板。所述处理模块包括：工艺腔室，其使用等离子体处理所述 基板；以及传送腔室，其具有在其上安装的主传送机械手，其中，所述主传送机械手将所述 基板传送到所述工艺腔室中。所述工艺腔室包括：壳体，其在其内部具有处理空间；支承单 元，其在所述处理空间中支承所述基板；气体供应单元，其将工艺气体供应至所述处理空 4 CN 111599744 A 说　明　书 2/9 页 间；和等离子体源，其配置为从所述工艺气体生成等离子体。所述支承单元包括：支承件，其 上放置有所述基板；和环形构件，其围绕放置在所述支承件上的所述基板，且设置成与所述 支承件为可分离的。所述装置还包括存储载体的载体存储单元，所述载体安装在所述主传 送机械手或索引机械手的手上，并且当所述环构件由所述主传送机械手或索引机械手传送 时，将环构件放置在所述载体上。 所述载体存储单元可以设置在索引模块上。 索引模块还可以包括：至少一个装载端口，其上放置有所述盒子；以及传送框架， 其中设置有所述索引机械手，所述索引机械手在放置在所述装载端口上的所述盒子和所述 处理模块之间传送所述基板。装载端口和传送框架可以沿第一方向布置，并且当从上方观 察时，装载端口和载体存储单元可以沿垂直于第一方向的第二方向布置。 根据另一实施方案，载体存储单元可以设置在与处理模块和索引模块间隔开的位 置。 所述索引机械手或所述主传送机械手中各自都可以包括机械手臂和耦合至所述 机械手臂的手，并且存储在所述载体存储单元中的所述载体可以包括：主体，其安装在所述 索引机械手的手的上表面或主传送机械手的手的上表面上；以及设置在所述主体上的防滑 构件。 防滑构件的上表面可以由具有比所述主体的上表面更高的摩擦系数的材料形成。 冷电镀(RAYDENT)涂层可以形成在所述主体上。 所述防滑构件可以包括多个防滑构件，各防滑构件具有环形形状。 所述索引机械手的手或所述主传送机械手的手可以通过真空夹持来支承所述基 板和所述载体。 载体存储单元可以仅存储载体、或存储其上放置有环形构件的载体。 根据示例性实施方案，公开了一种用于处理基板的方法。 所述基板处理方法包括：使用支承单元支承基板，所述支承单元包括环形构件，该 环形构件在处理空间中围绕所述基板外周；在所述基板上执行预定的处理。所述环形构件 由具有手的传送机械手传送，并且当所述环形构件由所述手传送时，所述环形构件由安装 在所述手上的载体支承。 所述防滑构件可以安装在所述载体的放置有所述环形构件的表面上。 所述防滑构件可包括多个O形环。 所述载体可以通过真空夹持而安装在所述手上。 当所述基板由所述传送机械手传送时，基板可以直接支承在所述手上。 传送聚焦环时所述手的传送速度可低于传送基板时所述手的传送速度。 附图说明 参照以下附图，上述和其他目的及特征将从以下描述中变得显而易见，其中除非 另有说明，否则在各个附图中，相同的附图标记表示相同部件，并且其中： 图1为示出了根据本发明构思的基板处理装置的视图； 图2为示出了根据本发明构思的工艺腔室的视图； 图3为根据本发明构思的传送环形构件时手的俯视图； 5 CN 111599744 A 说　明　书 3/9 页 图4为根据本发明构思的传送环形构件时手的仰视图； 图5为根据本发明构思的传送环形构件时手的侧视图； 图6为根据本发明构思的传送基板时手的侧视图； 图7为示出了根据本发明构思的载体存储单元的视图；以及 图8为示出了根据本发明构思的传送方法的流程图。