技术摘要：
本公开涉及信息处理装置、存储介质、光刻装置、产品的制造方法以及产品的制造系统。信息处理装置使用第一系统输出校正数据，该第一系统输出用于校正限定要在光刻装置中执行的处理的条件的校正数据，该光刻装置在基板上形成图案。第一系统包括在输入指示处理的结果的处  全部
背景技术：
在诸如半导体设备、微机电系统(MEMS)或平板显示面板之类的产品的制造中，在 基板上形成的结构已经变得越来越小型化，并且越来越需要增强光刻装置的性能。 为了满足对光刻装置的性能增强的需求，当光刻装置执行用于在基板上形成图案 的处理时，需要施加适当的处理条件。 日本专利申请特许公开No.2011-187951讨论了一种确定由执行处理的光刻装置 的控制模块获取的处理结果的技术。更具体而言，该技术确定处理结果与参考值的偏差是 否超出可允许范围。然后，如果确定偏差超出可允许范围，那么该技术施加相对于从诸如校 正系统(制造执行系统(MES))之类的外部系统获取的处理条件改变的处理条件，并在该条 件下执行处理。 在日本专利申请特许公开No.2011-187951中讨论的技术以如下假设为前提：对于 偏离可允许范围的处理结果，改变处理条件的方式是清楚的。因此，如果对于偏离可允许范 围的处理结果，改变处理条件的方式是不清楚的，那么可能变得难以改变处理条件。例如， 如果将新功能添加到光刻装置，那么对于与该功能相关的处理条件，获取校正数据的单元 可能是不清楚的。
技术实现要素：
本公开旨在提供信息处理装置、计算机可读存储介质、光刻装置、产品的制造方法 以及产品的制造系统，该信息处理装置提供获取用于校正要施加到在光刻装置中执行的处 理的处理条件的校正数据的单元。 根据本发明的一个方面，信息处理装置使用第一系统输出校正数据，该第一系统 输出用于校正限定要在将图案形成到基板上的光刻装置中执行的处理的条件的校正数据， 其中第一系统包括在输入指示处理的结果的处理结果的情况下输出校正数据的第一模型 以及在输入条件的情况下输出处理结果的第二模型。第一系统使用从第一模型输出的校正 数据来校正条件，并且基于通过将校正后的条件输入到第二模型而输出的处理结果来输出 校正数据。 通过以下参考附图对示例性实施例的描述，本发明的其它特征将变得清楚。 附图说明 图1是图示压印装置的图。 图2是图示信息处理装置的图。 5 CN 111597171 A 说　明　书 2/14 页 图3是图示压印处理的流程图。 图4A、图4B和图4C是图示模具的图案部分和供应到基板上的压印材料的图。 图5是图示其中形成图案的压射(shot)区域的布局的图。 图6A和图6B是图示校正模型和装置模型的图。 图7是图示子系统的图。 图8是图示子系统中的处理的流程图。 图9是图示根据第一示例性实施例的产品的制造系统的图。 图10是图示根据第二示例性实施例的产品的制造系统的图。 图11A至图11F是图示产品制造方法的图。 图12是图示产品的常规制造系统的图。