技术摘要：
本申请涉及作为除草剂的嘧啶氧基苯衍生物。本发明公开了式(1)的化合物，包括其所有立体异构体、N‑氧化物和盐，其中Q、Z、R2、R3和m定义于公开中。本发明还公开了包含式(1)化合物的组合物和用于控制不期望植被的方法，所述方法包括使所述不期望植被或其环境与有效量的 全部
背景技术：
为了获得高作物效率，控制不期望的植被是极为重要的。实现选择性控制杂草的 生长是非常令人期望的，特别是在有用的作物中，如稻、大豆、糖用甜菜、玉米、马铃薯、小 麦、大麦、西红柿和种植性作物等。在此类有用作物中未受控制的杂草生长可引起产量的显 著减少，由此导致消费者成本上升。控制非耕作区中不期望的植被也是极为重要的。用于这 些目的的许多产品是可商购获得的，但是持续需要更有效、更经济、毒性更小、对环境更安 全或具有不同作用位点的新型化合物。 JP 61236766 A(Sumitomo，1986)公开了作为除草剂的某些碳-连接的嘧啶氧基苯 衍生物。WO 94/17059(Nippon Soda，1994)公开了作为除草剂的某些碳连接的嘧啶氧基苯 衍生物。
技术实现要素：
本发明涉及式1的化合物(包括所有立体异构体)、(其N-氧化物和盐)、包含它们的 农业组合物、以及它们作为除草剂的用途： Q为5-或6-元芳族杂环环，所述环通过碳原子与式1其余部分结合，并且任选被1至 4个R1取代； Z为O或S； 每个R1独立地为卤素、氰基、硝基、SF5、CHO、C(＝O)NH2、C(＝S)NH2、SO2NH2、C1-C4烷 基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6 卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6 烷氧基羰基、C3-C7环烷基羰基、C2-C8烷基氨基羰基、C3-C10二烷基氨基羰基、C1-C4烷氧基、 C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷氧基、C3-C4卤代烯氧基、C3-C4卤代炔氧基、C3-C6环烷 6 CN 111574510 A 说 明 书 2/162 页 氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2- C6烷氧基卤代烷基、C2-C6烷氧基烷氧基、C2-C4烷基羰氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧 基、C1-C4羟烷基、C2-C4烷硫基烷基、SO R1An 、Si(CH3)3或B(-OC(R1B)2C(R1B)2O-)；或者任选被至 多5个取代基取代的苯环，所述取代基独立地选自R1C；或者5-或6-元杂芳环，所述5-或6-元 杂芳环包含选自碳原子和至多4个杂原子的环成员，所述杂原子独立地选自至多2个O、至多 2个S、和至多4个N原子，每个环任选被至多3个取代基取代，所述取代基独立地选自碳原子 环成员上的R1C和氮原子环成员上的R1D； R2为卤素、氰基、硝基、C1-C4烷氧基、C 2A1-C4烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、SOnR 、C1-C4 卤代烷基或C3-C6环烷基； 每个R3独立地为卤素、氰基、羟基、硝基、氨基、CHO、C(＝O)NH2、C(＝S)NH2、SO2NH2、 C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷 基、C3-C6卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰 基、C2-C6烷氧基羰基、C3-C7环烷基羰基、C1-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代 烷氧基、C3-C4卤代烯氧基、C3-C4卤代炔氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷 基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6烷氧基烷氧 基、C2-C4烷基羰氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧基、C2-C4烷硫基烷基、Si(CH3)3、C≡CSi (CH ) 、C(＝O)N(R3A)(R3B)、C(＝NOR3C 3D 3E3 3 )H、C(＝NR )H、SOnR ；或者任选被至多5个取代基取 代的苯环，所述取代基独立地选自R3F；或者5-或6-元杂芳环，所述5-或6-元环包含选自碳原 子和至多4个杂原子的环成员，所述杂原子独立地选自至多2个O、至多2个S、和至多4个N原 子，每个环任选被至多3个取代基取代，所述取代基独立地选自碳原子环成员上的R3F和氮原 子环成员上的R3G；或者嘧啶氧基； m为0、1、2或3； 每个n独立地为0、1或2； 每个R1A、R2A和R3E独立地为C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷基氨基或C2-C6二烷基 氨基； 每个R1B独立地为H或C1-C4烷基； 每个R1C独立地为羟基、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基或 C1-C6卤代烷氧基； 每个R1D独立地为氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基或C2-C6烷基羰基； 每个R3A独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基； 每个R3B独立地为H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基； 每个R3C独立地为H或C1-C4烷基； 每个R3D独立地为H、氨基、C1-C4烷基或C1-C4烷基氨基； 每个R3F独立地为羟基、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基或 C1-C6卤代烷氧基；并且 每个R3G独立地为氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基或C2-C6烷基羰基； 更具体地，本发明涉及式1的化合物(包括所有立体异构体)、其N-氧化物或其盐。 本发明还涉及除草剂组合物，所述除草剂组合物包含本发明化合物(即除草有效量的)和至 少一种组分，所述组分选自表面活性剂、固体稀释剂和液体稀释剂。本发明还涉及用于控制 7 CN 111574510 A 说 明 书 3/162 页 不期望植被生长的方法，所述方法包括使所述植被或其环境与除草有效量的本发明化合物 (例如为本文所述组合物形式)接触。 本发明也包括除草剂混合物，其包含(a)选自式1、N-氧化物及其盐的化合物，和 (b)至少一种附加活性成分，所述附加活性成分选自((b1)至(b16)；以及((b1)至(b16)的化 合物的盐。
本申请涉及作为除草剂的嘧啶氧基苯衍生物。本发明公开了式(1)的化合物，包括其所有立体异构体、N‑氧化物和盐，其中Q、Z、R2、R3和m定义于公开中。本发明还公开了包含式(1)化合物的组合物和用于控制不期望植被的方法，所述方法包括使所述不期望植被或其环境与有效量的 全部
背景技术：
为了获得高作物效率，控制不期望的植被是极为重要的。实现选择性控制杂草的 生长是非常令人期望的，特别是在有用的作物中，如稻、大豆、糖用甜菜、玉米、马铃薯、小 麦、大麦、西红柿和种植性作物等。在此类有用作物中未受控制的杂草生长可引起产量的显 著减少，由此导致消费者成本上升。控制非耕作区中不期望的植被也是极为重要的。用于这 些目的的许多产品是可商购获得的，但是持续需要更有效、更经济、毒性更小、对环境更安 全或具有不同作用位点的新型化合物。 JP 61236766 A(Sumitomo，1986)公开了作为除草剂的某些碳-连接的嘧啶氧基苯 衍生物。WO 94/17059(Nippon Soda，1994)公开了作为除草剂的某些碳连接的嘧啶氧基苯 衍生物。
技术实现要素：
本发明涉及式1的化合物(包括所有立体异构体)、(其N-氧化物和盐)、包含它们的 农业组合物、以及它们作为除草剂的用途： Q为5-或6-元芳族杂环环，所述环通过碳原子与式1其余部分结合，并且任选被1至 4个R1取代； Z为O或S； 每个R1独立地为卤素、氰基、硝基、SF5、CHO、C(＝O)NH2、C(＝S)NH2、SO2NH2、C1-C4烷 基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6 卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6 烷氧基羰基、C3-C7环烷基羰基、C2-C8烷基氨基羰基、C3-C10二烷基氨基羰基、C1-C4烷氧基、 C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷氧基、C3-C4卤代烯氧基、C3-C4卤代炔氧基、C3-C6环烷 6 CN 111574510 A 说 明 书 2/162 页 氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2- C6烷氧基卤代烷基、C2-C6烷氧基烷氧基、C2-C4烷基羰氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧 基、C1-C4羟烷基、C2-C4烷硫基烷基、SO R1An 、Si(CH3)3或B(-OC(R1B)2C(R1B)2O-)；或者任选被至 多5个取代基取代的苯环，所述取代基独立地选自R1C；或者5-或6-元杂芳环，所述5-或6-元 杂芳环包含选自碳原子和至多4个杂原子的环成员，所述杂原子独立地选自至多2个O、至多 2个S、和至多4个N原子，每个环任选被至多3个取代基取代，所述取代基独立地选自碳原子 环成员上的R1C和氮原子环成员上的R1D； R2为卤素、氰基、硝基、C1-C4烷氧基、C 2A1-C4烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、SOnR 、C1-C4 卤代烷基或C3-C6环烷基； 每个R3独立地为卤素、氰基、羟基、硝基、氨基、CHO、C(＝O)NH2、C(＝S)NH2、SO2NH2、 C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷 基、C3-C6卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰 基、C2-C6烷氧基羰基、C3-C7环烷基羰基、C1-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代 烷氧基、C3-C4卤代烯氧基、C3-C4卤代炔氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷 基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6烷氧基烷氧 基、C2-C4烷基羰氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧基、C2-C4烷硫基烷基、Si(CH3)3、C≡CSi (CH ) 、C(＝O)N(R3A)(R3B)、C(＝NOR3C 3D 3E3 3 )H、C(＝NR )H、SOnR ；或者任选被至多5个取代基取 代的苯环，所述取代基独立地选自R3F；或者5-或6-元杂芳环，所述5-或6-元环包含选自碳原 子和至多4个杂原子的环成员，所述杂原子独立地选自至多2个O、至多2个S、和至多4个N原 子，每个环任选被至多3个取代基取代，所述取代基独立地选自碳原子环成员上的R3F和氮原 子环成员上的R3G；或者嘧啶氧基； m为0、1、2或3； 每个n独立地为0、1或2； 每个R1A、R2A和R3E独立地为C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷基氨基或C2-C6二烷基 氨基； 每个R1B独立地为H或C1-C4烷基； 每个R1C独立地为羟基、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基或 C1-C6卤代烷氧基； 每个R1D独立地为氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基或C2-C6烷基羰基； 每个R3A独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基； 每个R3B独立地为H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基； 每个R3C独立地为H或C1-C4烷基； 每个R3D独立地为H、氨基、C1-C4烷基或C1-C4烷基氨基； 每个R3F独立地为羟基、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基或 C1-C6卤代烷氧基；并且 每个R3G独立地为氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基或C2-C6烷基羰基； 更具体地，本发明涉及式1的化合物(包括所有立体异构体)、其N-氧化物或其盐。 本发明还涉及除草剂组合物，所述除草剂组合物包含本发明化合物(即除草有效量的)和至 少一种组分，所述组分选自表面活性剂、固体稀释剂和液体稀释剂。本发明还涉及用于控制 7 CN 111574510 A 说 明 书 3/162 页 不期望植被生长的方法，所述方法包括使所述植被或其环境与除草有效量的本发明化合物 (例如为本文所述组合物形式)接触。 本发明也包括除草剂混合物，其包含(a)选自式1、N-氧化物及其盐的化合物，和 (b)至少一种附加活性成分，所述附加活性成分选自((b1)至(b16)；以及((b1)至(b16)的化 合物的盐。
