技术摘要：
一种压印模板的制作方法及压印模板，该压印模板的制作方法包括：提供包括原始图案的母模板，利用所述母模板形成包括第一转移图案和边缘图案的第一软模板，提供包括第一压印胶层的转换模板，利用所述第一软模板对所述转换模板进行压印，以在所述转换模板的第一压印胶层  全部
背景技术：
纳米压印技术(NIL)是一种薄膜图案化技术，主要包括热压印、紫外压印和微接触 压印，具有分辨率高、成本低、产率高、可大规模生产等特点。热压印和紫外压印的图案化原 理为：在热或者紫外照射下，将预先制作有图案的压印模版压设在压印胶上，通过脱模、刻 蚀多余胶、刻蚀和去胶等工艺，制作出与压印模版互补的图案。目前，纳米压印技术主要应 用在生物传感、发光二极管(LED)光效提升、光路控制、虚拟现实/增强现实(AR/VR)等领域 的薄膜图案化工艺。 随着显示技术领域大尺寸、低成本的需求日益迫切，中尺寸或大尺寸显示装置的 制备逐渐开始采用纳米压印技术。应用于显示技术领域的纳米压印工艺流程通常包括：先 制备出工作模板，然后根据工作膜板制备出大尺寸压印机使用的压印模板，利用压印模板 进行显示基板上薄膜的图案化。目前，模板拼接技术是实现大尺寸纳米压印的一大难点。比 如对于200纳米(nm)以下周期结构，基本上采用电子束直写技术完成，但是该技术目前只能 对应8寸及以下尺寸，难以实现大尺寸。因为为满足大尺寸纳米压印的应用，需要通过模板 拼接技术将小尺寸模板拼接成大尺寸模板。模板拼接中存在段差不良的问题。
技术实现要素：
以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范 围。 本申请实施例提供了一种压印模板的制作方法及压印模板，减少段差造成的不 良，提高压印模板质量。 一方面，本申请实施例提供了一种压印模板的制作方法，包括： 提供包括原始图案的母模板，利用所述母模板形成包括第一转移图案和边缘图案 的第一软模板，所述第一转移图案为所述原始图案的互补图案，所述边缘图案为所述母模 板边缘的互补图案； 提供包括第一压印胶层的转换模板，利用所述第一软模板对所述转换模板进行压 印，以在所述转换模板的第一压印胶层形成第二转移图案，所述第二转移图案包括所述原 始图案的部分或全部，在平行于所述转换模板的平面上，所述边缘图案的正投影位于所述 第一压印胶层的正投影外； 利用形成有所述第二转移图案的转换模板形成包括所述第三转移图案的第二软 模板，所述第三转移图案为所述第二转移图案的互补图案； 利用所述第二软模板对包括第二压印胶层的待压印基板进行压印，以在所述待压 印基板上形成压印图案，所述压印图案为所述第三转移图案的互补图案。 4 CN 111610694 A 说　明　书 2/10 页 在一示例性实施例中，所述提供包括第一压印胶层的转换模板包括： 提供包括亲水区域和疏水区域的亲疏水模板； 在所述亲疏水模板的亲水区域形成所述第一压印胶层，在平行于所述亲疏水模板 的平面上，所述第一压印胶层的正投影位于所述疏水区域的正投影外。 在一示例性实施例中，所述提供包括亲水区域和疏水区域的亲疏水模板包括： 在基底上贴附完全覆盖所述基底的牺牲层薄膜； 图案化所述牺牲层薄膜，生成牺牲层图案，在平行于所述基底的平面上，所述牺牲 层的正投影与所述亲水区域的正投影重合； 在所述牺牲层远离所述基底一侧和所述基底靠近所述牺牲层一侧涂覆疏水层薄 膜；即形成完全覆盖所述牺牲层和所述基底的疏水层薄膜剥离所述亲水区域的牺牲层和疏 水层薄膜。 在一示例性实施例中，所述提供包括亲水区域和疏水区域的亲疏水模板包括： 在基底上涂覆疏水层薄膜； 通过光刻工艺对所述疏水层薄膜进行图案化，生成疏水层图案，在平行于所述基 底的平面上，所述疏水层的正投影与所述疏水区域的正投影重合。 在一示例性实施例中，所述疏水层的材料包括以下至少之一：聚四氟乙烯、氟乙烯 丙烯共聚物、过氟烷基化物和乙烯-四氟乙烯共聚物。 在一示例性实施例中，所述涂覆疏水层薄膜包括：使用旋涂、浸涂或者蒸镀涂覆疏 水层薄膜。 在一示例性实施例中，所述疏水层薄膜的厚度为5nm至100nm。此处仅为示例，根据 需要可以是其他厚度。 在一示例性实施例中，所述提供包括原始图案的母模板包括：提供多个所述母模 板； 所述第一软模板包括多个所述第一转移图案和多个所述边缘图案； 所述提供包括第一压印胶层的转换模板包括：提供包括多个第一压印胶层的转换 模板，所述第一压印胶层与所述第一转移图案和所述边缘图案一一对应，在平行于所述转 换模板的平面上，所述边缘图案的正投影位于所述边缘图案对应的第一压印胶层的正投影 外。 在一示例性实施例中，所述母模板包括晶圆。 在一示例性实施例中，所述第一压印胶层和所述第二压印胶层的材料包括热固化 型纳米压印胶或者紫外固化型纳米压印胶。 又一方面，本申请实施例提供一种压印模板，所述压印模板使用上述压印模板的 制作方法的制作。 本申请实施例提供一种压印模板的制作方法，包括：提供包括原始图案的母模板， 利用所述母模板形成包括第一转移图案和边缘图案的第一软模板，所述第一转移图案为所 述原始图案的互补图案，所述边缘图案为所述母模板边缘的互补图案；提供包括第一压印 胶层的转换模板，利用所述第一软模板对所述转换模板进行压印，以在所述转换模板的第 一压印胶层形成第二转移图案，所述第二转移图案包括所述原始图案的部分或全部，在平 行于所述转换模板的平面上，所述边缘图案的正投影位于所述第一压印胶层的正投影外； 5 CN 111610694 A 说　明　书 3/10 页 利用形成有所述第二转移图案的转换模板形成包括所述第三转移图案的第二软模板，所述 第三转移图案为所述第二转移图案的互补图案；利用所述第二软模板对包括第二压印胶层 的待压印基板进行压印，以在所述待压印基板上形成压印图案，所述压印图案为所述第三 转移图案的互补图案。本申请实施例提供的压印基板的制作方法，通过对存在段差的第一 软模板再次压印，去除掉第一软模板边缘的压印图案，进而得到无段差的第二软模板，使用 该无段差的第二软模板得到无段差的压印模板，提高了压印模板的质量，可以实现无段差 的模板拼接，实现无段差的大尺寸纳米压印。另外，本实施例提供的方案，工艺简单，重复性 高。 本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变 得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书以及 附图中所特别指出的结构来实现和获得。 在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。 附图说明 附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本 申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。 图1为一技术方案提供的压印模板的制作方法示意图； 图2为图1所示方案段差示意图； 图3为图1所示方法所得的压印模板的剥离不良示意图； 图4为本申请实施例提供的压印模板的制作方法流程图； 图5为一实施例提供的形成第一软模板的示意图； 图6a为一实施例提供的形成牺牲层薄膜后的示意图； 图6b为一实施例提供的形成牺牲层薄膜后实物的示意图； 图7a为一实施例提供的形成牺牲层图案后的示意图； 图7b为一实施例提供的形成牺牲层后实物的示意图； 图8为一实施例提供的形成疏水层薄膜后的示意图； 图9为一实施例提供的形成疏水层图案后的示意图； 图10为一实施例提供的亲疏水模板示意图； 图11为一实施例提供的形成第一压印胶层后示意图； 图12a为一实施例提供的形成压印图案后的转换模板示意图； 图12b为一实施例提供的形成压印图案后的转换模板实物示意图；图13为一实施 例提供的使用转换模板进行压印的示意图； 图14为一实施例提供的第二软模板的示意图； 图15为一实施例提供的压印模板示意图； 图16为另一实施例提供的形成疏水层薄膜后的示意图； 图17为另一实施例提供的形成疏水层图案后的示意图； 图18为又一实施例提供的多个母模板示意图； 图19为又一实施例提供的第一软模板示意图； 图20为又一实施例提供的亲疏水模板示意图； 6 CN 111610694 A 说　明　书 4/10 页 图21为又一实施例提供的转换模板示意图； 图22为又一实施例提供的第二软模板示意图； 图23为又一实施例提供的压印模板示意图； 图24为另一实施例提供的压印模板示意图。