技术摘要：
本发明公开了一种真空镀膜工艺及装置，包括步骤一：将产品放入超声波清洗槽中进行表面清洗；步骤二等步骤，此真空镀膜工艺及装置，通过在真空镀膜机本体底端的两个导轨之间设有的拉动导向装置，从而可以对产品进行镀膜时，可以便于转盘底端的两个导向板进行导向定位的  全部
背景技术：
真空镀膜设备工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发 的膜体分子会铲生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光，所以必须在高真空下才能使结晶 体细密光亮,如果真空度不高结晶体就会失去光泽结合力也很差。早期真空镀膜设备是依 靠蒸发体自然散射,结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的 蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,中性的靶原子(或分子) 沉积在基片上成膜,解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种,如镀钛镀锆等等。 目前，现有产品在进行真空镀膜时，首先需要将清洗好的产品挂在转盘上的挂架 上，随后，通过升降小车，将转盘对准真空镀膜机底端的导轨实现连接的作用，然而现有的 转盘与真空镀膜机之间连接时，需要一个人控制升降小车的高度以及位置，另一个人对转 盘与真空镀膜机之间进行测量导向，一方面存在耗费人力，另一方面与真空镀膜机底端导 轨连接的位置位于转盘底端，不便于人工观察，进而影响产品镀膜效率，同时在转盘与真空 镀膜机连接后，需要人工手动将转盘推入真空镀膜机中，且在推入的过程中，无法控制对转 盘的推动力，容易导致转盘推动力过大而导致真空镀膜机中与转盘接触的阳极损坏的现 象，而当推入力过小，则容易存在转盘底端与真空镀膜机中的阳极无法紧密接触的现象，进 一步的影响产品的加工，为此，我们提出一种真空镀膜工艺及装置。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种真空镀膜工艺及装置，以解决上述