技术摘要：
本申请公开了一种显示基板及其制造方法、显示装置，涉及显示技术领域。该显示基板包括衬底基板以及多个子像素，每个子像素包括阳极层，该阳极层包括位于同层且间隔设置的多个电极块。由于每个电极块远离衬底基板的一侧在衬底基板上的正投影，位于电极块靠近衬底基板的  全部
背景技术：
有机发光二极管(organic  light  emitting  diode，OLED)显示装置包括多个OLED 子像素。每个子像素包括：阳极层，阴极层以及位于该阳极层和阴极层之间的发光层。 相关技术中，为了使得显示装置具有3维(dimension，D)显示效果，每个子像素包 括的阳极层可以包括多个同层且间隔设置的电极块，每个电极块可以与对应的一个像素电 路连接，该像素电路能够驱动对应的电极块所在区域的发光层发光。并且，对于每个子像素 的阳极层中的任意两个电极块，该两个电极块所在区域的发光层发出的光线能够显示在不 同的平面，从而实现显示装置的3D显示。 但是，由于阳极层包括的多个电极块间隔设置，且每个电极块的侧壁与衬底基板 的承载面垂直，容易导致形成在该电极块的一侧的发光层在电极块的侧壁处断裂，进而影 响显示装置的显示效果。
技术实现要素：
本申请提供了一种显示基板及其制造方法、显示装置，可以解决相关技术中显示 装置的显示效果较差的问题。所述技术方案如下： 一方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括：衬底基板，以及位于所述衬底 基板的一侧的多个子像素，每个所述子像素包括：阳极层； 所述阳极层包括：位于同层且间隔设置的多个电极块，每个所述电极块远离所述 衬底基板的一侧在所述衬底基板上的正投影，位于所述电极块靠近所述衬底基板的一侧在 所述衬底基板上的正投影内。 可选的，每个所述电极块的侧壁为平面，且每个所述电极块的侧壁与所述衬底基 板的承载面之间的夹角的范围为40度至70度。 可选的，每个所述电极块包括：沿远离所述衬底基板的一侧依次层叠的第一电极 图案，第二电极图案，以及第三电极图案； 所述第二电极图案在所述衬底基板上的正投影位于所述第一电极图案在所述衬 底基板上的正投影内，所述第三电极图案在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一电极图 案在所述衬底基板上的正投影，且覆盖所述第二电极图案在所述衬底基板上的正投影。 可选的，所述第一电极图案和所述第三电极图案的材料均为氧化铟锡，所述第二 电极图案的材料为铝或银。 可选的，每个所述子像素还包括：发光层以及阴极层； 所述发光层位于所述阳极层远离所述衬底基板的一侧，所述发光层在所述衬底基 板上的正投影覆盖相邻两个所述电极块之间的间隙，且与每个所述电极块在所述衬底基板 上的正投影重叠； 4 CN 111584753 A 说　明　书 2/10 页 所述阴极层位于所述发光层远离所述衬底基板的一侧。 可选的，所述显示基板还包括：位于所述多个子像素远离所述衬底基板的一侧的 多个透镜结构； 每个所述透镜结构在所述衬底基板上的正投影覆盖一个所述子像素在所述衬底 基板上的正投影。 另一方面，提供了一种显示基板的制造方法，所述方法包括： 提供一衬底基板； 在所述衬底基板的一侧形成多个子像素； 其中，每个所述子像素包括：阳极层，所述阳极层包括：位于同层且间隔设置的多 个电极块，每个所述电极块远离所述衬底基板的一侧在所述衬底基板上的正投影，位于所 述电极块靠近所述衬底基板的一侧在所述衬底基板上的正投影内。 可选的，所述在所述衬底基板的一侧形成多个子像素，包括： 在所述衬底基板的一侧形成阳极层； 在所述阳极层远离衬底基板的一侧形成发光层； 在所述发光层远离阳极层的一侧形成阴极层。 可选的，所述在所述衬底基板的一侧形成阳极层，包括： 在所述衬底基板的一侧依次形成第一电极层以及第二电极层； 对所述第二电极层进行图形化处理，得到多个间隔的第二电极图案，每个所述第 二电极图案的侧壁与所述衬底基板的承载面之前的夹角为锐角； 对所述第一电极层进行图形化处理，得到多个间隔的第一电极图案，每个所述第 二电极图案在所述衬底基板上的正投影位于一个所述第一电极图案在所述衬底基板上的 正投影内； 在所述多个第二电极图案远离所述衬底基板的一侧形成第三电极层； 对所述第三电极层进行图形化处理，得到多个间隔的第三电极图案，每个所述第 三电极图案在所述衬底基板上的正投影，覆盖一个所述第一电极图案在所述衬底基板上的 正投影，以及一个所述第二电极图案在所述衬底基板上的正投影。 又一方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括：驱动电路以及如上述方面所 述的显示基板； 所述驱动电路用于为所述显示基板中的每个子像素提供驱动信号。 本申请提供的技术方案带来的有益效果至少包括： 本申请提供了一种显示基板及其制造方法、显示装置，该显示基板包括衬底基板 以及多个子像素，每个子像素包括阳极层，该阳极层包括位于同层且间隔设置的多个电极 块。由于每个电极块远离衬底基板的一侧在衬底基板上的正投影，位于电极块靠近衬底基 板的一侧在衬底基板上的正投影内，即每个电极块的侧壁相对于衬底基板的承载面倾斜， 因此能够便于后续发光层沿电极块的侧壁爬坡形成，进而避免发光层在电极块的侧壁处断 裂，保证显示装置的显示效果。 附图说明 为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使 5 CN 111584753 A 说　明　书 3/10 页 用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于 本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他 的附图。 图1是一种采用扫描电子显微镜对相关技术中的发光层进行测试的结果示意图； 图2是另一种采用扫描电子显微镜对相关技术中的发光层进行测试的结果示意 图； 图3是相关技术中的显示装置的显示效果示意图； 图4是本申请实施例提供的一种显示基板的结构示意图； 图5是本申请实施例提供的另一种显示基板的结构示意图； 图6是本申请实施例提供的又一种显示基板的结构示意图； 图7是本申请实施例提供的再一种显示基板的结构示意图； 图8是本申请实施例提供的一种子像素的结构示意图； 图9是本申请实施例提供的再一种显示基板的结构示意图； 图10是本申请实施例提供的再一种显示基板的结构示意图； 图11是本申请实施例提供的一种显示基板的制造方法的流程图； 图12是本申请实施例提供的另一种显示基板的制造方法的流程图； 图13是本申请实施例提供的一种衬底基板和晶体管器件层的示意图； 图14是本申请实施例提供的一种阳极层的制造方法的流程图； 图15是本申请实施例提供的一种形成第一电极层和第二电极层的示意图； 图16是本申请实施例提供的一种对第二电极层进行图形化处理的示意图； 图17是本申请实施例提供的一种对第一电极层进行图形化处理的示意图； 图18是本申请实施例提供的一种形成第三电极层的示意图； 图19是本申请实施例提供的一种对第三电极层进行图形化处理的示意图； 图20是本申请实施例提供的另一种阳极层的制造方法的流程图； 图21是一种采用扫描电子显微镜对本申请实施例提供的电极块进行测试的结果 示意图； 图22是本申请实施例提供的一种形成像素界定薄膜的示意图； 图23是本申请实施例提供的一种对像素界定薄膜进行图形化处理的示意图； 图24是本申请实施例提供的一种形成发光层的示意图； 图25是本申请实施例提供的一种形成阴极层的示意图； 图26是本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图。