技术摘要：
公开了用于化学气相沉积涂层应用的支撑件。在一个方面中，本文中描述载体主体和相关装置，其用于在CVD过程期间支撑切割工具。在一些实施例中，载体主体和相关装置可以有助于反应器托盘上切割工具的正确安置和定向，同时最小化接触标记。简单来说，载体主体包含基座、与  全部
背景技术：
化学气相沉积(CVD)是用于将多种涂层架构施用于制品的有效且低成本方法。CVD 方法在沉积各种化学物质的涂层方面的灵活性使其在许多行业中成为有吸引力的技术。举 例来说，切割工具行业已经数十年来使用CVD方法在切割工具(包括切割刀片、端铣刀和钻 头)上沉积耐磨、耐火涂层。为了使效率最大化，在分批式应用中涂布数千个切割刀片。这种 大量刀片需要系统性装载和卸载物流。在许多情况下，在这类装载和卸载操作中使用机器 人。机器人的一个显著缺点是不能区分各个刀片安置位置。这会引起安置错误和不良涂布 结果。 接触标记是在CVD涂布过程中遇到的另一个重要问题。举例来说，不在物件与CVD 装置的支撑结构之间的界面处沉积CVD涂层。这些未涂布的区域被标记为接触标记并且会 破坏涂层完整性和性能。因此，先前支撑结构尝试最小化接触标记。然而，支撑结构与制品 之间的接触界面的最小化会使反应器中的物件安置及/或物件定向复杂化，引起涂层异常 或不规则性。
技术实现要素：
在一个方面中，本文中描述载体主体和相关装置，其用于在CVD过程期间支撑切割 工具。在一些实施例中，载体主体和相关装置可以有助于反应器托盘上切割工具的正确安 置和定向，同时最小化接触标记。简单来说，载体主体包含基座、与基座相对的引导元件和 凸脊，以用于在化学气相沉积涂布过程期间支撑一个或多个切割工具。在一些实施例中，凸 脊安置在基座与引导元件之间并且从载体主体的中心纵向轴线径向向外延伸。此外，凸脊 可以界定载体主体的肩部。 在另一个方面中，提供用于CVD反应器的托盘和相关载体主体。在一些实施例中， 托盘包含用于在涂布过程期间支撑切割工具的载体主体，所述载体主体在托盘的一个面上 以丛集方式布置。丛集可以在托盘上具有周期性或非周期性布置或间隔。在一些实施例中， 载体主体的丛集可以实现托盘上工具安置位置之间的空间分化，由此有助于切割工具的适 当自动装载和卸载。如本文中进一步描述，丛集中的载体主体可以具有任何所需几何结构 或尺寸。 在另一个方面中，提供用于工具涂布过程的载体组件。举例来说，载体组件包含用 于接合化学气相沉积装置的托盘的平台，和布置在平台表面上的载体主体，所述载体主体 具有用于在涂布应用期间支撑切割工具的几何结构。在一些实施例中，平台包含一个或多 个用于接合托盘中的凹部或孔口的突出部。或者，平台可以具有用于接合托盘上的突出部 的凹部或孔口。 4 CN 111549334 A 说　明　书 2/4 页 在以下详细说明中进一步描述这些和其它实施例。 附图说明 图1说明根据一些实施例的载体主体的前正视图。 图2说明图1的载体主体的透视图。 图3说明图1的载体主体的底部平面图。 图4说明图1的载体主体的侧视图。 图5-14说明根据本文中描述的一些实施例的各种载体主体几何结构和设计。 图15说明载体组件的实施例，其包含用于插入托盘孔口的突出部。