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一种光亮贵金属制剂及其应用

技术摘要:
本发明涉及一种光亮贵金属制剂,所述光亮贵金属制剂包含至少一种有机贵金属化合物、助熔剂和有机载体,其特征在于,所述有机贵金属化合物中的贵金属选自由金、铑、钯和铂组成的组,其中铑在所述光亮贵金属制剂中的含量大于0重量%且小于2重量%;所述助熔剂含有有机化  全部
背景技术:
液体形式和浆料形式的贵金属配方是用于装饰玻璃、陶瓷、瓷器和瓷砖的现有技 术。这些制剂通常含有必须溶于有机载体中的有机(贵金属)金属化合物:贵金属的典型有 机化合物包括巯基化合物。此外,这些制剂含有有机金属化合物,如影响贵金属颜色的Rh、 Bi、Cr、V、Ni、Co、Fe、Sn、Zr、Cu、Si、Al等元素的树脂酸盐、羧酸盐和醇盐。此外,该配方由溶 剂和合成的或天然的树脂的组合组成。 所述贵金属配方可以通过间接丝网印刷工艺(丝网印刷)施加在基材上,这种工艺 是制造贴花的关键工艺。 在贴花应用中,将包含贵金属制剂的装饰层直接施加到支撑纸上,具体地说,所述 纸由具有水溶性涂层的背纸(back  paper)组成。 通常用于装饰的光亮贵金属制剂在陶瓷(ceramic)、瓷器(porcelain)、瓷砖 (tile)或骨瓷(bone  china)上烧制,烧制温度为约780℃至900℃,或在特殊情况下甚至高 达1000℃。在上述温度以上,当金颗粒形成纹理并在纹理边界处显示结晶时,光亮的贵金属 制剂的亮金膜不再可见,这导致贵金属涂层的无光泽和/或灰色烧结结果,尤其是在金涂层 的情况下。 最近,人们对通过在高烧制温度下烧制彩色图案和透明或不透明玻璃浮雕来装饰 陶瓷和瓷器,特别是瓷砖具有相当大的兴趣。 最近开发了适用于上述应用的高烧制温度的制剂,即用于瓷器和骨瓷装饰的温度 约为900℃至920℃。 DE-PS  24  35  859公开了一种抛光金制备金件,用于在1100℃至1400℃的温度下 在陶瓷制品上进行烘烤。该组合物除金制剂外,还含有3重量%至40重量%的粉末形式的一 种或多种非贵金属,最高达10重量%的偶合氧化物(coupling  oxide)或玻璃助熔剂(glass  flux)。元素金、非贵金属和偶合氧化物或玻璃助熔剂不溶于有机载体介质中,因此没有获 得更好的光亮度。 DE-PS  22  08  915公开了一种抛光粉末的金制剂。该金制剂含有来自基团卡西乌 (Cassius)金紫色、氧化铁和铝的稳定添加剂,以增加耐烘烤性,其中以硼酸铋作为助熔剂。 烧制后,获得无光泽装饰。 DE-PS  14  21  865公开了一种生产涂覆有贵金属膜的玻璃质陶瓷制品的方法,其 中所用的光亮贵金属制剂含有可溶性有机贵金属化合物和可溶性助熔剂以及用于贵金属 化合物和助熔剂的有机载体。在至少900℃下进行烘烤。该文献提到了许多产生助熔剂的非 贵金属,包括铝、硼、铋、铬、钴、铟、硅、钽、钛和锆。 DE  3,736,583还描述了可在1250℃下在由硅酸盐材料制成的陶瓷制品上烧制的 光亮贵金属制剂。所述制剂中含有的助熔剂由在硅原子上具有可水解基团的有机硅化合物 4 CN 111574243 A 说 明 书 2/7 页 和其它有机金属化合物组成。 根据美国专利号4,418,099的贵金属制剂另外含有云母(金属氧化物颜料),在常 规烧制条件(800℃)下产生抛光金类型的丝质亚光贵金属装饰。
技术实现要素:
为了解决上述缺点,本发明在第一方面提供了一种光亮贵金属制剂,所述光亮贵 金属制剂包含至少一种有机贵金属化合物、助熔剂和有机载体,其特征在于,所述有机贵金 属化合物中的贵金属选自由金、铑、钯和铂组成的组,其中铑在所述光亮贵金属制剂中的含 量大于0重量%且小于2重量%;所述助熔剂含有有机化合物形式的钌、铱、锇和/或硅。 本发明在第二方面提供了一种在硅酸盐陶瓷制品上通过烧入光亮贵金属制剂来 生产贵金属装饰物的方法,所述光亮贵金属制剂为本发明第一方面所述的光亮贵金属制 剂。 本发明制剂对烧制特别稳定,可以在硅酸盐陶瓷基材上形成特别明亮的贵金属 膜,并且具有特别优异的耐磨性。 附图说明 附图中虽然有手写体的标记,但是这些标记无需识别和辨认,即使不清楚也不影 响本发明效果的展示,不影响对本发明的充分公开。 图1是本申请实施例5制得的产品的照片。 图2是本申请实施例7制得的产品的照片。 图3是本申请对比例1中要烧制的制品在烧制前的照片。 图4是本申请对比例1制得的产品的照片。
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